簡稱:IEEE T ELECTRON DEV
ISSN:0018-9383
ESSN:0018-9383
所屬分區:3區
出版地:UNITED STATES
出版周期:Monthly
創刊時間:1954
研究方向:工程技術 - 工程:電子與電氣
IEEE Transactions on Electron Devices publishes original and significant contributions relating to the theory, modeling, design, performance and reliability of electron and ion integrated circuit devices and interconnects, involving insulators, metals, organic materials, micro-plasmas, semiconductors, quantum-effect structures, vacuum devices, and emerging materials with applications in bioelectronics, biomedical electronics, computation, communications, displays, microelectromechanics, imaging, micro-actuators, nanoelectronics, optoelectronics, photovoltaics, power ICs and micro-sensors. Tutorial and review papers on these subjects are also published and occasional special issues appear to present a collection of papers which treat particular areas in more depth and breadth.
《Ieee Transactions On Electron Devices》是一本由IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC出版商出版的專業工程技術期刊,該刊創刊于1954年,刊期Monthly,該刊已被國際權威數據庫SCIE、SCI收錄。在中科院最新升級版分區表中,該刊分區信息為大類學科:工程技術 2區,小類學科:物理:應用 2區;工程:電子與電氣 3區;在JCR(Journal Citation Reports)分區等級為Q2。該刊發文范圍涵蓋工程:電子與電氣等領域,旨在及時、準確、全面地報道國內外工程:電子與電氣工作者在該領域取得的最新研究成果、工作進展及學術動態、技術革新等,促進學術交流,鼓勵學術創新。2021年影響因子為3.221,平均審稿速度約4.7個月。
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 2區 | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 | 2區 3區 | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 3區 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區 3區 | 否 | 否 |
| JCR分區等級 | JCR所屬學科 | 分區 | 影響因子 |
| Q2 | PHYSICS, APPLIED | Q2 | 3.221 |
| ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | Q2 |
| 影響因子 | h-index | Gold OA文章占比 | 研究類文章占比 | OA開放訪問 | 平均審稿速度 |
| 3.221 | 165 | 2.78% | 99.65% | 未開放 | 約4.7個月 |